Меню
Публикации
2024
2023
2022
2021
2020
2019
2018
2017
2016
2015
2014
2013
2012
2011
2010
2009
2008
2007
2006
2005
2004
2003
2002
2001
Главный редактор
НИКИФОРОВ
Владимир Олегович
д.т.н., профессор
Партнеры
doi: 0.17586/2226-1494-2019-19-6-1022-1030
УДК 535
МЕТОДЫ ОПТИМИЗАЦИИ ИСХОДНЫХ ОПТИЧЕСКИМ СХЕМ ЛИТОГРАФИЧЕСКИХ ОБЪЕКТИВОВ
(на англ. яз.)
Читать статью полностью
Язык статьи - английский
Ссылка для цитирования:
Аннотация
Ссылка для цитирования:
Зорич Н.Д., Томас Л., Смирновa И.Г. Методы оптимизации исходных оптических схем литографических объективов // Научно-технический вестник информационных технологий, механики и оптики. 2019. Т. 19. № 6. С. 1022–1030. doi: 10.17586/2226-1494-2019-19-6-1022-1030
Аннотация
Оптимизация литографических объективов является сложной задачей из-за большого количества переменных и противоречивых ограничений. В работе приведено описание методов оптимизации исходных оптических схем для
ультрафиолетовых объективов, сгенерированных на основе алгоритма глобального поиска. К исходным схемам применены эффективные инструменты глобальной оптимизации: функция автоматической вставки элементов и построение седловых точек с учетом конструктивных ограничений. Ошибки трассировки лучей и критические линзы в исходных оптических системах, выбранных автоматически с применением алгоритма глобального поиска, оптимизированы и заменены с использованием метода седловых точек. Результаты работы и представленные методы глобальной оптимизации актуальны и применимы для любой центрированной сложной оптической системы.
Ключевые слова: глобальная оптимизация, автоматизированное проектирование линз, литография, УФ, алгоритм глобального поиска,
исходная оптическая схема
Благодарности. Работа выполнена при поддержке People Programme (Marie Curie Actions) Седьмая рамочная программа Европейского Союза (FP7/2007-2013) REA грант. соглашение № PITN-GA-2013-608082 «ADOPSYS». Авторы благодарят за ценный вклад г-на Хоу Чжэ из Технического университета Делфта.
Список литературы
Благодарности. Работа выполнена при поддержке People Programme (Marie Curie Actions) Седьмая рамочная программа Европейского Союза (FP7/2007-2013) REA грант. соглашение № PITN-GA-2013-608082 «ADOPSYS». Авторы благодарят за ценный вклад г-на Хоу Чжэ из Технического университета Делфта.
Список литературы
- Dilworth D.C. Novel global optimization algorithms: binary construction and the saddle-point method // Proceedings of SPIE. 2012. V. 8486. P. 84860A. doi: 10.1117/12.929156
- Zoric N.D., Smirnova I.G., Georgiou S. Starting point selection in grouping design method for lithographic objectives // Научно-технический вестник информационных технологий, механики и оптики. 2019. Т. 19. № 5. С. 790–800. doi: 10.17586/2226-1494-2019-19-5-790-800
- Bociort F., Marinescu O. Designing lithographic objectives by constructing saddle points // Proc. International Optical Design Conference (IODC 20016), Technical Digest (CD) (Optical Society of America, 2006). 2006. P. TuA3.
- Cao Z., Li Y., Mao Sh. Grouping design method of catadioptric projection objective for deep ultraviolet lithography // Optical Engineering. 2017. V. 56. N 2. P. 025102. doi: 10.1117/1.OE.56.2.025102
- Cheng X., Wang Y., Hao Q., Sasian J. Automatic element addition and deletion in lens optimization // Applied Optics. 2003. V. 42. N 7. P. 1309–1317. doi: 10.1364/AO.42.001309
- Sasian J.M., Descour M.R. Power distribution and symmetry in lens systems // Optical Engineering. 1998. V. 37. N 3. P. 1001–1004. doi: 10.1117/1.601933
- Bociort F., Van Turnhout M. Finding new local minima in lens design landscapes by constructing saddle points // Optical Engineering.2009. V. 48.N 6. P. 063001. doi: 10.1117/1.3156022
- Zoric N., Livshits I., Dilworth D., Okishev S. Design of an ultraviolet projection lens by using a global search algorithm and computer optimization // Advanced Optical Technologies. 2017.V. 6. N 1. P. 31–38.doi: 10.1515/aot-2016-0058
- Harriott L.R. Limits of lithography // Proceedings of the IEEE. 2001. V. 89. N 3. P. 366–374. doi: 10.1109/5.915379
- Levinson H.J. Principles of lithography. 2nd ed. Bellingham, WA: SPIE Press, 2005. P. 33–43.
- Shafer D. The consequences of Petzval correction in lithographic designs // Advanced Optical Technologies. 2015. V. 4. N 1. P. 93–97. doi: 10.1515/aot-2014-0067
- Bentley J.L., Olson C., Youngworth R.N. In the era of global optimization, the understanding of aberrations remains the key to designing superior optical systems // Proceedings of SPIE. 2010. V. 7849. P. 78490C. doi: 10.1117/12.871720
- Hooker J.N., Cagan J., Grossman I.E. Combining artificial intelligence and optimization in engineering design. Carnegie Mellon University, Tepper School of Business, 1994. P. 11–12.
- Born M., Wolf E. Principles of optics: Electromagnetic theory of propagation, interference and diffraction of light. 7th ed. Cambridge, New York: Cambridge University Press, 1999. pp. 190–194.
- Ulrich W., Beiersdöerfer S., Mann H.J. Trends in optical design of projection lenses for UV- and EUV-lithography // Proceedings of SPIE. 2000. V. 4146. P. 13–24. doi: 10.1117/12.406667
